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納米位移台通常采用反饋控製和閉環控製原理，以實現高精度的位置控製。這種控製方式允許係統在目標位置附近進行微小的調整和修正，以使位移台保持在所需位置或軌跡上。以下是反饋控製和閉環控製的基本原理：
反饋控製原理： 反饋控製是一種基本控製原理，它利用傳(chuan) 感器或探測器獲取係統的實際輸出（反饋信號），並將其與(yu) 目標設定值進行比較。然後，根據反饋信號與(yu) 目標設定值之間的差異，控製係統通過執行調整控製信號來糾正偏差，使係統逐漸趨近或穩定在目標值附近。
在納米位移台中，反饋控製利用高精度的位置傳(chuan) 感器（如光電編碼器或壓電傳(chuan) 感器）監測位移台的實際位置，並將實際位置與(yu) 期望位置進行比較。如果實際位置與(yu) 期望位置之間存在差異，控製係統將產(chan) 生誤差信號，並將其用作輸入來驅動執行器（如電機或壓電陶瓷）進行微調，以使位移台移動並趨近於(yu) 期望位置。
閉環控製原理： 閉環控製是反饋控製的一種特殊形式，其中控製係統根據反饋信號進行連續的調整，直到誤差信號趨近於(yu) 零或到達預定的容忍度範圍。閉環控製可以實現更高的控製精度和穩定性，因為(wei) 它對係統的動態響應進行實時調整。
在納米位移台中，閉環控製將反饋信號與(yu) 目標設定值進行連續比較，並通過持續的微調，使位移台保持在期望位置或軌跡上。通過閉環控製，納米位移台可以實現高精度、穩定的位置控製，以滿足各種實驗和應用的需求。
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