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納米位移台在原子層沉積（ALD）中發揮著重要作用，主要有以下幾個(ge) 方麵：
準確定位和控製：在ALD過程中，納米位移台可以用於(yu) 準確定位和控製基底樣品的位置。由於(yu) ALD是一種以原子層為(wei) 單位進行沉積的技術，對於(yu) 一些特定的應用，如納米器件製備，對基底樣品位置的準確定位和控製至關(guan) 重要。納米位移台可以提供納米級別的位置控製，確保沉積的原子層均勻而準確。
樣品環境控製：ALD過程需要在嚴(yan) 格的氣體(ti) 環境和特定的溫度條件下進行。納米位移台通常具有樣品環境控製功能，可以提供恒定的溫度、氣體(ti) 氛圍和壓力條件，以確保ALD過程的穩定性和可重複性。
多維度控製：一些納米位移台具有多維度的控製能力，可以在不同方向上移動和旋轉樣品。這對於(yu) 某些特殊結構的ALD沉積是至關(guan) 重要的，因為(wei) 它可以使沉積物在各個(ge) 方向上均勻生長，從(cong) 而實現更加複雜的結構設計。
在線監測和調節：納米位移台通常與(yu) ALD係統的控製軟件集成，可以實時監測和調節沉積過程中的樣品位置和環境條件。這有助於(yu) 實時控製沉積速率和均勻性，優(you) 化沉積過程，並確保所得到的薄膜具有所需的性質和質量。
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