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納米位移台通常具有兩(liang) 種主要的定位模式：步進定位（Step positioning）和連續定位（Continuous positioning）。
步進定位模式：在步進定位模式下，納米位移台以固定的步長移動。它通過控製執行器（如壓電元件或電磁驅動）以離散的方式進行位置變化。這種模式下，納米位移台移動到目標位置後會(hui) 停止，並保持在該位置。步進定位模式適用於(yu) 需要準確的位置控製、位置固定以及需要進行單點測量或操作的應用。
連續定位模式：在連續定位模式下，納米位移台可以以連續的方式進行位置調節。它可以實時地對執行器施加控製信號，從(cong) 而實現平滑和連續的位置變化。連續定位模式適用於(yu) 需要連續掃描、運動軌跡跟蹤、表麵映射等需要連續變化的應用。
區別：
步進定位模式是離散的，而連續定位模式是連續的。在步進定位模式下，納米位移台會(hui) 在每個(ge) 步進位置上停止，而在連續定位模式下，它可以平滑地移動到任意位置。
步進定位模式適用於(yu) 需要固定位置和離散操作的應用，而連續定位模式適用於(yu) 需要連續運動、掃描或跟蹤的應用。
步進定位模式下的定位精度通常較高，因為(wei) 每個(ge) 位置都可以被準確控製和固定。而連續定位模式下的定位精度可能受到運動平滑性和控製係統的響應時間等因素的影響。
選擇步進定位模式還是連續定位模式取決(jue) 於(yu) 具體(ti) 應用的需求。某些應用可能需要高精度的位置控製和固定，適合步進定位模式。而對於(yu) 需要平滑連續運動或實時反饋的應用，則更適合選擇連續定位模式。
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