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納米位移台在高精度定位時，如果樣品出現滑動或偏移，會(hui) 嚴(yan) 重影響實驗或工藝結果的穩定性和重複性。這類問題多發生於(yu) 樣品安裝不牢、平台動態響應較快、或者環境幹擾等情況。
常見原因及對應解決(jue) 方法：
1. 樣品固定方式不牢
問題表現：樣品在台麵輕微震動或運動時發生位移。
解決(jue) 方案：
使用高質量的真空吸附平台，特別適用於(yu) 平整薄片樣品；
對於(yu) 非平麵或特殊樣品，可使用：
雙麵導電膠帶（適合 SEM 等需要導電固定的應用）；
低殘留膠點（如 3M 微點膠）；
微型夾具或定製卡扣支架；
光學應用中可選用 UV 固化膠（注意避免汙染樣品）。
2. 平台加減速過快
問題表現：樣品因慣性滑動，尤其在掃描或大步長快速定位中。
解決(jue) 方案：
優(you) 化運動曲線，加入緩啟動/緩停止（S-curve or trapezoidal profile）；
在控製器中降低最大加速度和速度，平滑動態行為(wei) ；
減少快速往返動作，避免反複機械衝(chong) 擊。
3. 樣品重心不穩或支撐不均
問題表現：樣品不對稱擺放或支撐點少，易晃動。
解決(jue) 方案：
保證樣品放置重心居中，支撐點至少三點接觸；
對不規則樣品使用定製托架或泡沫填充支撐；
對高重心物體(ti) ，建議使用L型支撐或斜撐加固。
4. 平台表麵摩擦係數太低
問題表現：樣品在光滑平台麵上打滑。
解決(jue) 方案：
在平台表麵貼一層柔性防滑墊（如矽膠墊或微米級橡膠片）；
更換為(wei) 具備紋理或粗糙化處理的平台托盤；
有條件的場合可微微傾(qing) 斜平台，增加摩擦力方向上的正壓力。
5. 外界幹擾
問題表現：在非運動情況下也有微小位移。
可能原因：空氣流、振動、靜電、磁場幹擾等。
解決(jue) 方案：
關(guan) 閉或隔絕氣流（如抽風罩、空調口）；
使用防振平台或氣浮平台；
樣品或支架做良好接地，防止靜電吸附擾動。
6. 長時間測試中的位置漂移
可能原因：溫度變化導致熱膨脹、膠體(ti) 材料漸變、樣品重力緩慢下滑等。
應對措施：
改用低蠕變、熱穩定性強的固定材料；
做好樣品預熱或平台恒溫；
加入實時位移監測反饋，自動修正偏移。
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