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安裝納米位移台時，對平台的水平度有一定要求，這是為(wei) 了保證其高精度定位性能和長期穩定性。以下是常見的要求和建議：
一、平台水平度的基本要求
水平度誤差建議小於(yu) 0.1 mm/m（或0.01°）
對於(yu) 高精度納米位移係統，平台表麵應盡量保持水平，以避免：
重力對運動部件產(chan) 生橫向分量，影響精度；
造成負載不均，影響傳(chuan) 動係統的受力；
在閉環控製係統中引入誤差。
精密應用建議更嚴(yan) 如果使用的是壓電型或電容反饋閉環控製的納米位移台，建議平台水平度達到：
≤ 0.05 mm/m 或 ≤ 0.003°（大約10角秒）
二、水平度的重要性體(ti) 現在哪些方麵？
重複定位精度：傾(qing) 斜會(hui) 引入慣性變化，影響位移重複性；
負載均衡：重力偏移可能導致運動機構一邊受力大，磨損不均；
反饋誤差：傳(chuan) 感器測量方向與(yu) 實際運動方向不一致時，誤差增大；
校準基準一致性：水平不準會(hui) 影響與(yu) 光學器件、探針、樣品台等的對準；
三、怎麽(me) 確保平台水平？
使用高精度電子水平儀(yi) 或光學水平儀(yi) ；
安裝前可在平台表麵墊高精密調整墊片；
使用三點調節結構進行初調；
對於(yu) 長期使用環境，應定期檢查並調整水平狀態，尤其是在溫濕度波動大的場所。
四、是否絕對要求“完全水平”？
不是“完全”水平，但需要控製在設備說明書(shu) 的誤差範圍內(nei) ，尤其是：
行程越大、負載越重、精度越高的納米位移台，對水平度越敏感；
某些Z軸或傾(qing) 斜補償(chang) 位移台可能可以容忍一定傾(qing) 斜，但仍建議校正。