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一個(ge) 納米位移台可以控製的方向數（自由度，Degrees of Freedom, DOF）取決(jue) 於(yu) 其設計結構和應用需求。常見控製方向如下：
1 個(ge) 方向（單軸納米位移台）
控製軸向：通常是 X、Y 或 Z 其中一個(ge) 方向。
應用：單方向掃描、簡單位移、對焦等。
2 個(ge) 方向（雙軸納米位移台）
控製平麵：常見為(wei) XY、XZ 或 YZ 兩(liang) 個(ge) 方向的平麵控製。
應用：表麵掃描、平麵對準、探針定位等。
3 個(ge) 方向（三軸納米位移台）
控製三維空間：X、Y、Z 三個(ge) 正交方向。
應用：三維對準、納米裝配、激光聚焦定位等。
多自由度（≥4軸）
例子：
6軸平台（X、Y、Z 平移 + α、β、γ 旋轉）
Tip/Tilt/Z 平台（Z軸 + 兩(liang) 個(ge) 角度傾(qing) 斜）
應用：複雜微組裝、光學對準、幹涉儀(yi) 、半導體(ti) 封裝中的晶圓級旋轉調節等。
補充說明：
模塊組合：許多高精度係統將多個(ge) 單軸或雙軸位移台疊加或組合，構建出多軸係統。
同步控製：多軸平台通常搭配閉環反饋（如電容傳(chuan) 感器、光柵尺）和高性能控製器，實現亞(ya) 納米級同步控製。