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校準納米位移台（nanopositioning stage）的移動範圍是確保其位移精度、重複性和線性響應的關(guan) 鍵步驟。以下是完整的校準流程與(yu) 注意事項，不含表格或圖標，僅(jin) 保留清晰的文字說明：
一、為(wei) 什麽(me) 需要校準
出廠默認標定值可能不適用於(yu) 你當前的工作環境（溫度、負載等）。
長時間使用後可能出現漂移或非線性偏差。
外接控製器或軟件接口更新後需要重新匹配精確位移量。
二、常見校準方式
1. 使用幹涉儀(yi) 或激光測距儀(yi)
原理：通過高精度位移傳(chuan) 感器（如 Michelson 幹涉儀(yi) ）測量真實移動距離。
步驟：
將幹涉儀(yi) 反射鏡固定在位移台上。
輸入一段控製信號（如移動 10 微米）。
讀取實際測得的位移值。
若有偏差，調整比例因子（scale factor）或控製係統的轉換參數。
2. 使用標準光柵尺或編碼器標尺
原理：通過帶有已知分辨率的光柵尺檢測實際位移。
步驟：
將光柵尺貼合在運動路徑上。
控製位移台在單位步長下運動，並記錄實際移動數據。
計算每步響應是否線性一致。
校準控製軟件中的轉換比例。
3. 使用已知結構樣品（如 SEM、AFM 或光學顯微鏡下的樣品）
適用於(yu) 科研環境。
方法：
讓位移台移動到兩(liang) 個(ge) 微結構之間（間距已知）。
比較軟件記錄的位移值與(yu) 實際間距。
反複測試後修正係統中的偏移量或非線性係數。
三、軟件校準流程（以常見控製軟件為(wei) 例）
進入軟件設置界麵，查找“軸校準”或“移動範圍標定”功能。
輸入已知的標準步長，例如移動 100 個(ge) 控製單位。
讀取實際測量值（通過幹涉儀(yi) 、光學尺或標準樣）。
軟件根據差異自動調整校準係數。
保存設置，重新測試以確認是否精確。