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判斷納米位移台是否出現誤差，需要從(cong) 係統反饋、運動表現和測量結果等多個(ge) 維度綜合分析。以下是常用的判斷方法和依據：
一、從(cong) 控製係統或反饋信號判斷
閉環控製反饋值與(yu) 設定值不一致
如果位移台為(wei) 閉環控製（如帶有光柵尺或電容傳(chuan) 感器），應實時檢查反饋值是否與(yu) 設定值一致。
偏差大、反複出現或難以收斂，可能存在誤差或控製問題。
誤差信號或報警信息
控製器軟件可能會(hui) 彈出“超限”、“無法到位”、“失穩”等信息，是係統異常的重要信號。
振蕩或不穩定反饋波形
若反饋信號曲線出現不規則抖動或震蕩，也說明運動過程中存在誤差或幹擾。
二、從(cong) 運動表現判斷
重複定位誤差明顯
多次讓位移台返回同一目標位置（如“往返5次”），若位置結果波動大於(yu) 設備規格，說明重複定位誤差偏大。
回程誤差較大
正反方向到達同一目標點時，若位置反饋或實際測量值不同，可能存在回程間隙或驅動失配。
響應遲緩或延遲明顯
位移響應慢、不跟手、滯後大，可能是電機負載變化、潤滑失效或控製參數設置不合理。
三、從(cong) 外部測量判斷
用激光幹涉儀(yi) 、光學顯微鏡、AFM 或白光幹涉儀(yi) 測量
實測軌跡、位移量與(yu) 設定值進行對比，尤其適用於(yu) 高精度需求下的誤差檢測。
位移不線性
理論上應勻速運動的過程，若測量出明顯的加減速或平台“跳動”，提示執行係統或編碼器存在問題。
目標樣品未能對準或誤差累積明顯
在顯微觀察下，樣品無法精準對準目標區域、圖像漂移嚴(yan) 重，通常也是位移台定位不準的表現。