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納米位移台在使用過程中出現“回跳”現象，通常表現為(wei) 台體(ti) 在移動到目標位置後又輕微反向跳動或震蕩，影響定位精度與(yu) 重複性。這類問題可從(cong) 以下幾個(ge) 方麵排查與(yu) 處理：
一、原因分析及應對方法
1. 閉環控製參數不當（伺服控製回路調整不佳）
原因：PID 參數設置不合理，導致控製器對反饋誤差過度修正，引起過衝(chong) 或震蕩。
處理：進入控製軟件界麵，適當降低比例增益（P）或微分增益（D），使係統響應更柔和，抑製震蕩。
2. 機械係統存在間隙或彈性變形
原因：機械結構存在反向間隙（backlash）、材料彈性滯後，導致位移台在停止前後發生微小機械回彈。
處理：
檢查絲(si) 杆、滑台是否有鬆動；
使用預緊結構或加裝消隙裝置（如彈簧負載）；
在控製程序中啟用消隙補償(chang) 功能，通過反向慢速進給消除間隙影響。
3. 驅動器或電機分辨率不足
原因：驅動電流過高、微步設置過低或編碼器分辨率不夠，導致微小位移響應不穩定。
處理：
檢查並提高驅動器細分設置（如由 16 微步改為(wei) 32 或更高）；
選用分辨率更高的編碼器；
降低電機電流以減少震蕩。
4. 負載變化或台體(ti) 剛性不足
原因：負載重心偏移或質量過大，導致係統慣性大，停止時不易快速穩定。
處理：
盡量保持負載對稱，貼近台體(ti) 中心；
若結構剛性不足，建議更換更高剛性的位移台型號。
5. 程序控製邏輯問題
原因：控製程序執行邏輯在運動結束前反複發出位置指令，導致反複調整。
處理：
優(you) 化程序中位移完成判斷邏輯；
增加“位置到達”確認延時，等待係統穩定後再執行下一步操作。