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納米位移台在同一位置重複移動時通常會(hui) 存在微小誤差，這類誤差被稱為(wei) 重複定位誤差。雖然高性能位移台的重複精度可以達到納米級甚至亞(ya) 納米級，但在實際應用中，仍可能出現輕微偏差。下麵是詳細解釋：
一、為(wei) 什麽(me) 會(hui) 有重複移動誤差？
1. 機械結構與(yu) 驅動滯後
壓電陶瓷、柔性鉸鏈、滑軌等部件存在一定彈性或非線性；
同一位置反複往返時，存在微小的機械回跳、彈性形變或磨擦滯後。
2. 溫度變化引起熱漂移
連續移動或長時間使用導致平台升溫，結構微膨脹；
熱漂移會(hui) 讓重複位置偏移幾個(ge) 納米甚至更多。
3. 控製係統精度有限
控製器的分辨率、數字量化誤差、閉環傳(chuan) 感器精度等都會(hui) 影響最終的重複定位；
開環控製比閉環控製更容易產(chan) 生誤差。
4. 負載變化影響
樣品或夾具重量改變，會(hui) 影響平台的運動響應，造成誤差；
特別是在高速加減速過程中，慣性差異會(hui) 加劇偏移。
5. 靜電或外界幹擾
高靈敏度係統可能受到靜電、振動、地磁等幹擾，影響定位。
二、重複定位誤差的常見表現
同一目標位置反複返回時，位置略有偏移（比如 ±2 nm、±5 nm 範圍內(nei) ）；
誤差呈方向性：從(cong) 左向右移動 vs 從(cong) 右向左移動返回，可能存在偏差；
誤差累積：在長時間操作或多次重複定位中出現輕微累積。
三、如何減少或優(you) 化這種誤差？
使用閉環控製係統
閉環係統配有位置反饋（如電容傳(chuan) 感器），能大幅提升重複精度。
預熱平台至熱穩態
預熱 30–60 分鍾，使平台達到穩定溫度，減少熱漂移。
設置合理的運動參數
降低加速度、優(you) 化加減速曲線，避免平台抖動或衝(chong) 擊。
保持負載恒定
避免在每次操作中更換或偏移樣品重量。
增加等待時間
到達目標位置後延時 0.5–2 秒，待平台靜穩再進行操作或采圖。
環境控製
保持室溫恒定，避免振動、電磁幹擾，使用防靜電地墊。