新聞

納米位移台在真空環境下的表現，和在空氣中相比往往是“明顯不一樣的”，而且這種變化既可能變好，也可能變差。
首先是摩擦和潤滑變化。進入真空後，空氣阻尼消失，運動阻力減小，高頻響應有時會(hui) 更幹脆。但同時，普通潤滑脂容易揮發或失效，摩擦係數反而變得不穩定，低速爬行、方向切換遲滯更容易出現。
其次是真空放氣和汙染問題。材料和潤滑劑在真空中放氣，會(hui) 汙染傳(chuan) 感器或樣品區，間接影響位移穩定性和重複性，這在納米級定位時非常明顯。
溫度效應會(hui) 被放大。真空中幾乎沒有對流散熱，驅動器和致動器產(chan) 生的熱量更難散出，結構熱膨脹更集中，長時間掃描時容易出現緩慢漂移。
對壓電納米位移台來說，遲滯和蠕變特性在真空中基本仍然存在，但由於(yu) 環境更穩定，有時短時間內(nei) 的噪聲會(hui) 下降；相反，長期漂移可能更突出。
傳(chuan) 感器和電纜也會(hui) 受到影響。電容式、應變式傳(chuan) 感器在真空中一般可用，但對汙染更敏感；線纜剛性在真空中表現更明顯，拖拽力對微小位移的影響會(hui) 被放大。